NVIDIA宣布TSMC和Synopsys将生产计算光刻平台

Magpie.AI 2024-03-18 16:19:00

Keywords: NVIDIA, TSMC, Synopsys, 计算光刻平台, 先进半导体芯片

NVIDIA宣布TSMC和Synopsys将生产NVIDIA的计算光刻平台，以加速制造并推动下一代先进半导体芯片的物理极限。TSMC是全球领先的晶圆代工厂，而Synopsys是硅到系统设计解决方案的领导者，他们已经将NVIDIA cuLitho与他们的软件、制造流程和系统集成，以加速芯片制造，并在未来支持最新一代的NVIDIA Blackwell架构GPU。NVIDIA创始人兼CEO黄仁勋表示：“计算光刻是芯片制造的基石。我们与TSMC和Synopsys合作开发的cuLitho应用了加速计算和生成式人工智能，为半导体尺寸提供了新的可能性。”此外，NVIDIA还推出了新的生成式人工智能算法，增强了cuLitho，这是一个用于GPU加速的计算光刻库，可以显著改进半导体制造过程，超过目前基于CPU的方法。计算光刻是半导体制造过程中计算密集型的工作负载，每年消耗数十亿个小时的CPU时间。一套芯片的掩模集可能需要3000万个小时或更多的CPU计算时间，需要半导体代工厂内大型数据中心。通过加速计算，350台NVIDIA H100系统现在可以取代4万台CPU系统，加快生产时间，同时降低成本、空间和功耗。自去年推出以来，cuLitho使TSMC能够开启新的创新图案技术的机会。在共享工作流程中测试cuLitho，两家公司共同实现了曲线流程的45倍加速和更传统的曼哈顿式流程的近60倍改进。Synopsys是在加速计算光刻性能方面的先驱。Synopsys的Proteus™光学近邻修正软件在NVIDIA cuLitho软件库上运行，与目前基于CPU的方法相比，可以显著加速计算工作负载。通过Proteus掩模合成产品，像TSMC这样的制造商可以在近邻修正、纠正模型构建和分析已纠正和未纠正的IC版图模式的近邻效应方面实现卓越的精度、效率和速度，彻底改变芯片制造过程。 NVIDIA还开发了算法，将生成式人工智能应用于进一步增强cuLitho平台的价值。新的生成式人工智能工作流程在加速的基础上提供了额外的2倍加速。生成式人工智能的应用可以创建一个接近完美的反向掩模或反向解决方案，以考虑光的衍射。最终掩模是通过传统和物理严谨的方法推导出来的，将光学近邻修正（OPC）过程的整体加速提高了两倍。现在，工厂流程中的许多变化都需要进行近邻修正的修订，这增加了所需的计算量，并在工厂开发周期中产生瓶颈。cuLitho提供的加速计算和生成式人工智能缓解了这些成本和瓶颈，使工厂能够分配可用的计算能力和工程带宽，以设计更多新颖的解决方案，开发2纳米及更高级别的新技术。想了解更多信息，请观看黄仁勋的GTC主题演讲。通过3月21日之前注册GTC，参加来自NVIDIA和行业领导者的900多个会议。关于NVIDIA自1993年成立以来，NVIDIA（纳斯达克股票代码：NVDA）一直是加速计算的先驱。该公司于1999年发明的GPU引发了PC游戏市场的增长，重新定义了计算机图形，点燃了现代人工智能时代，并正在推动市场的工业数字化。NVIDIA现在是一家全面的计算基础设施公司，其数据中心规模的产品正在重塑行业。更多信息请访问https://nvidianews.nvidia.com/。若需进一步信息，请联系：Liz Archibald NVIDIA公司通讯部larchibald@nvidia.com。